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如何提高濺射靶材利用率在平面磁控濺射過程中，通常是以圓環(huán)形永磁體在實心的長(正)方體形和圓柱體形陶瓷靶材表面建立環(huán)形磁場，在軸間等距離的環(huán)形表面形成刻蝕(Ero

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超細磨設(shè)備對物料的粉碎分散作用主要是依靠研磨介質(zhì)來實現(xiàn)的，因此研磨介質(zhì)對超細粉碎過程有很大的影響。本文將著重分析研磨介質(zhì)的硬度和密度在立式砂磨機中的超細粉碎的影

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CENOTECCO.,LTD成立于1999年，通過不懈的技術(shù)創(chuàng)新開發(fā)研究和質(zhì)量管理，發(fā)展為科研，開發(fā)，生產(chǎn)和經(jīng)營為一體的世界最高品質(zhì)研磨介質(zhì)企業(yè)。而且作為優(yōu)先上