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所謂光掩膜是微電子制造領(lǐng)域中光刻工藝所使用的圖形母版，是由不透光的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形（Mask Pattern），并通過曝光將圖形轉(zhuǎn)印到產(chǎn)品基板之上。

掩模版的主要應(yīng)用于以下領(lǐng)域：

IC（Integrated Circuit，集成電路）

尤其是LSI（Large Scale IC，大規(guī)模集成電路）包括Wafer制程及IC Bumping等

FPD（Flat Panel Display，平板顯示器）包括PDP、LCD、LED、OLED等

PCB（Printed Circuit Boards，印刷電路板）

MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微機(jī)電系統(tǒng)）