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參考報價：電議 型號：
產地：北京 在線咨詢
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一、 產品應用：
JS-1600M型磁控濺射儀是依據二極(DC)直流濺射原理設計而成的，*簡單、可靠、經濟的鍍膜設備。適用于電鏡實驗室的掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備，非導體材料實驗電極制作。
二、 配置及技術指標：
1. 本系統裝配了水冷卻磁控靶，靶面直徑為50 mm
2. 主機規格：L360mm*W300mm*H380mm
3. 靶（上部電極）：金：直徑：50mm，厚度：0.1mm
4. 真空樣品室： 直徑：160mm，高：120mm
5. 濺射面積： Ф50mm
6. 真空指示表： **真空度：≤ 4X10-2 mbar
7. 離子電流表： **電流：100mA
8. 定時器： *長時間：3600S
9. 微型真空氣閥： 可連接φ3mm軟管
10. 可通入氣體： 多種
11. **電壓： -1600 DCV
12. 機械泵： 2L/S
三、 產品特點
1. 輕便、濺射面積大
2. 可以濺射鉑、金及銀等金屬
3. 濺射效率高，可水冷降溫
