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參考報價：電議 型號：
產地：英國 在線咨詢
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英國Quorum出品的CryoSEM掃描電鏡冷凍臺、離子濺射鍍膜儀、蒸發鍍碳儀、熱蒸發鍍膜儀、臨界點干燥儀、冷凍干燥儀、等離子清潔刻蝕灰化儀等系列產品，作為世界**電鏡制樣設備，在電子顯微鏡(掃描電鏡/透射電鏡)的樣品制備領域中應用非常廣泛。
產品主要分類及型號如下：
Sputter Coating Systems
磁控離子濺射鍍膜儀(可鍍金、鉑、銥、鉻、鋁...用于鎢燈絲電鏡、場發射電鏡、掃描探針以及材料科研等領域)
型號及簡述：
SC7620緊湊型離子濺射鍍膜儀（噴金儀）：普通機械泵抽真空，模擬控制，具有Glow discharge輝光放電處理功能。可選噴碳附件實現噴金/噴碳兩個用途 ；
Q150R S離子濺射鍍膜儀：機械泵抽真空系統，CPU程序全自動控制，觸膜屏用戶界面，可鍍多種貴金屬膜材，也可鍍相對較厚的膜；可選配輝光放電處理單元
Q150T S高分辨率離子濺射鍍膜儀：蝸輪泵高真空系統，CPU程序全自動控制，觸膜屏用戶界面，設有自動擋板和靶材預清潔程序，不但可鍍多種貴金屬膜材，也可鍍多種易氧化金屬膜材；可鍍相對較厚的膜；可選配輝光放電處理單元
Q300QQQ300R T大腔室、多功能離子濺射鍍膜儀：三靶大面積濺射系統之旋轉機械泵版本，CPU程序全自動控制，觸膜屏用戶界面，適合不氧化的貴金屬如金（Au）、鉑（Pt）等靶材大面積鍍膜
Q300T T大腔室、多功能、高真空離子濺射鍍膜儀：三靶大面積濺射系統之高分辨渦輪泵版本，CPU程序全自動控制，觸膜屏用戶界面，標配有自動擋板和靶材預清潔程序，既適合貴金屬、也適合易氧化金屬等靶材大面積鍍膜
Q300T D大腔室、多功能、高真空雙頭離子濺射鍍膜儀：渦輪泵高真空系統，CPU程序自動控制，觸膜屏用戶界面，大腔室，雙濺射鍍膜頭，可自動順序濺射兩層不同的成膜材料；標配有自動擋板和靶材預清潔程序，既適合貴金屬、也適合易氧化金屬等靶材單層鍍膜、雙層或多層依次鍍膜。
Carbon Coating and Evaporation Systems
鍍碳儀和蒸鍍儀（蒸鍍碳及金屬）
型號及簡述：
K975X/K975XS多用途高真空蒸發鍍膜儀：渦輪泵抽真空系統，CPU程序自動控制，LCD顯示屏，既可熱蒸發鍍碳，也可用熱蒸發方式蒸鍍多種金屬等膜材；可選配離子濺射模塊、低角度陰影組件、雙源蒸發模塊等多種功能模塊
Q150R E碳蒸鍍儀：機械泵抽真空系統，CPU程序自動控制，觸膜屏用戶界面，標配碳絲/碳繩頭，可蒸鍍碳導電膜
Q150T E高真空熱蒸發鍍膜儀：渦輪泵抽真空系統，CPU程序自動控制，觸膜屏用戶界面；標配碳棒頭，可蒸鍍碳；可選蒸鍍金屬等多種膜材（向上蒸鍍、向下蒸鍍兩種方式），亦可使用鉬舟實現對電鏡光闌的清潔處理（燒光闌）
Coater with both Sputtering and Evaporation Systems
離子濺射/熱蒸發一體化鍍膜儀
型號及簡述：
Q150R ES離子濺射/碳蒸發一體化鍍膜儀：機械泵抽真空系統，CPU程序自動控制，觸膜屏用戶界面，集成了離子濺射和碳蒸鍍兩種沉積功能的鍍膜儀（兼具噴金儀/噴碳儀兩臺儀器的功能）；具有智能邏輯自動識別系統
Q150T ES高真空離子濺射/熱蒸發一體化鍍膜儀：蝸輪泵抽真空系統，CPU程序自動控制，觸膜屏用戶界面，集成了高分辨離子濺射和熱蒸鍍兩種沉積功能的鍍膜儀（兼具高分辨濺射儀/高真空蒸鍍儀兩臺儀器的功能）；具有智能邏輯自動識別系統
Freeze Driers(Peltier/LN2 Cooled )
冷凍干燥儀(Peltier電制冷/液氮制冷)
型號：K750X，K775X...
Critical Point Driers（CPD）
臨界點干燥儀
型號：垂直腔室:K850，K850WM；水平腔室:E3000/E3100
RF Plasma (Ashing/Etching) Units
射頻等離子刻蝕單元（清潔、灰化）
型號：K1050X，K1050XT
Cryogenic Systems for Electron Microscopes （CryoSEM）
掃描電鏡冷凍制備傳輸系統（掃描電鏡冷凍臺），可將普通SEM或場發射SEM改造成能直接觀察含水樣品（無需脫水干燥）的低溫冷凍掃描電鏡！
型號：K1250X，PP2000，PP2000T，PP3000T
ESEM / VP Cooling Stage
環掃/可變真空 掃描電鏡冷臺（掃描電鏡小冷臺）
型號：K25X
技術參數：詳細技術參數見各型號的樣本資料，或訪問：查看詳細參數。也可來電咨詢：
