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新一代磁控濺射卷繞鍍膜設備
報價:面議
品牌: 中科唯實
產地: 四川
關注度: 1843
型號: 新一代磁控濺射卷繞鍍膜設備
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產品介紹

主要技術指標:

基材厚度:PET:10-125μm;PI:8-75μm

有效鍍膜幅寬:1300mm

6組濺射陰極,其中1組孿生陰極

純金屬濺射靶材利用率≥35%;反應濺射靶材利用率≥30%;

真空抽率:卷繞室從大氣狀態到2×10-2Pa,需要時間≤35min 

鍍膜室(清潔、空載)極限壓力:≤5×10-4 Pa;

卷繞室壓升率(清潔、空載):≤0.5Pa/hr(深冷冷阱工作)

放、收卷徑:400mm(**);放、收卷芯軸直徑:6 inch(150mm) ;

反饋控制:磁控濺射反饋補氣響應時間≤45μs

鍍膜均勻性,重復性測試:在1250mm幅寬范圍內濺射均勻性≤±3%

反應濺射氣體反饋控制系統(可選):實現對反應濺射的精細控制;

前處理:烘烤解熱和線性離子源

在線光學反射率傳感系統或歐姆測量傳感系統

張力控制范圍:0-500N ,控制精度:±1%

基膜走速:0.5—10米/分鐘


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915101007323523944

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