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碳膜濺射設備 CS-200
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| 品牌: | 萬德思諾 |
| 產地: | 天津 |
| 關注度: | 1212 |
| 型號: | 碳膜濺射設備 CS-200 |
產品介紹
產品圖片:
產品型號:
CS-200
產品介紹:
Dense carbon film for high temp. anneal
Max. Substrate φ200㎜(Transfer tray available)
產品特點:
1. Key point for carbon process
- Front(Ion Implantation) and Back(Annealing) processes are well known.2. Good process experience for CC deposition
- AIST and SIC production company uses ULVAC system.3. Optional items
- High temp stage, RF stage bias, 3MFC line, DRP, etc.
問商家
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天津市萬德思諾國際貿易有限公司為您提供萬德思諾碳膜濺射設備 CS-200,碳膜濺射設備 CS-200產地為天津,屬于半導體行業專用儀器,除了碳膜濺射設備 CS-200的參數、價格、型號、原理等信息外,還可為您提供中型高速研磨設備 STC-610、MIST-CVD氧化物薄膜沉積設備 M150A、飛行時間二次離子質譜儀 TOF-SIMS。
工商信息
企業名稱
天津市萬德思諾國際貿易有限公司
企業類型
信用代碼
91120103MA06P45U7J
法人代表
注冊地址
成立日期
注冊資本
有效期限
經營范圍







