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高真空磁控濺射鍍膜機
報價:面議
品牌: 卡喏科技
產地: 北京
關注度: 350
型號: 高真空磁控濺射鍍膜機
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產品介紹

主要技術指標

●靶材數量:2-4個

●基片尺寸:2-8英寸

●基片臺轉速:5-30rpm,轉速連續可調

主要特點

●具有多個濺射靶,可沉積單層、多層薄膜、合金薄膜和摻雜薄膜;

●濺射方式:自下而上濺射、自上而下濺射可選;

●基片臺可加熱,可制備單晶薄膜;

●可選配輔助清洗離子源,有效提高薄膜的附著力;


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卡喏科技(北京)有限公司為您提供卡喏科技高真空磁控濺射鍍膜機,高真空磁控濺射鍍膜機產地為北京,屬于半導體行業專用儀器,除了高真空磁控濺射鍍膜機的參數、價格、型號、原理等信息外,還可為您提供真空烘箱、單工位手套箱、三D打印手套箱。
工商信息
企業名稱

卡喏科技(北京)有限公司

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信用代碼

91110113MA020G3286

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