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一、氧化鈰拋光粉產(chǎn)品介紹：

達西濃自主生產(chǎn)的氧化鈰拋光粉主要成分是二氧化鈰（CeO2），其純度通常較高，以確保拋光效果。

二、氧化鈰拋光粉產(chǎn)品參數(shù)：

1、高效拋光：白色氧化鈰拋光粉具有優(yōu)異的拋光性能，能夠在短時間內(nèi)達到理想的拋光效果。

2、高精度：由于其粒度均勻細小，拋光后的表面光潔度高，滿足高精度拋光的要求。

3、長壽命：拋光粉在使用過程中不易磨損，能夠保持較長時間的拋光效果。

4、易清洗：拋光完成后，拋光粉容易從拋光表面清洗干凈，不會對后續(xù)處理或產(chǎn)品性能造成影響。

四、氧化鈰拋光粉主要用途：

1、光學玻璃：用于各種光學玻璃器件、光學鏡頭、透鏡等的拋光處理，確保光學元件的表面光潔度和光學性能。

2、半導體材料：用于半導體晶片的拋光處理，確保晶片的表面質(zhì)量滿足生產(chǎn)要求。

3、精密制品：如醫(yī)療器械、不銹鋼制品、鈦合金、硅片、液晶面板顯示屏等精密制品的表面研磨拋光。

五、氧化鈰拋光粉注意事項：

1、拋光前準備：確保待拋光表面已經(jīng)清洗干凈，無油污、灰塵等雜質(zhì)。

2、拋光液配制：根據(jù)拋光要求和拋光粉的濃度范圍，合理配制拋光液。

3、拋光操作：選擇合適的拋光設備和工藝參數(shù)，確保拋光效果的一致性和穩(wěn)定性。

4、拋光后處理：拋光完成后，及時清洗干凈拋光表面殘留的拋光粉，并進行必要的后續(xù)處理。