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一、氧化硅拋光液產品介紹

達西濃自主生產的氧化硅拋光液主要由高純度膠態氧化硅微粒或高純度硅粉制成，具有高純度和低金屬離子的特性，可以有效避免加工元件產生刮傷。其分散性好，去除率高，表面效果好，對工件無損傷，且易于清洗?。

二、氧化硅拋光液產品參數：

三、氧化硅拋光液產品特點：

氧化硅拋光液主要由納米級的硅氧化物顆粒構成，這些顆粒在水中形成穩定的溶膠體系。由于顆粒很細小，能夠更均勻地分布在被拋光材料的表面，從而實現更精細的拋光效果。此外，該拋光液還具有良好的穩定性和環保性，既保證了拋光質量，又符合現代工業生產對環保的高要求。

四、氧化硅拋光液應用領域：

1、電子半導體行業：在半導體晶圓的制造過程中，氧化硅拋光液被廣泛用于硅片的化學機械拋光（CMP）工藝，以提高硅片表面的平整度和光潔度。

2、光學領域：用于光學鏡片、棱鏡等光學元件的拋光。像在相機鏡頭的生產中，這些拋光液可以使鏡頭表面達到極高的平整度和光潔度，減少光的反射和散射，提高成像質量。

3、精密機械：在精密機械零件的制造中，使用氧化硅拋光液可以進一步提高零件表面的光潔度和精度，從而提升機械的整體性能和壽命。

4、陶瓷加工：對于陶瓷材料，如陶瓷基板、陶瓷藝術品等的拋光。利用其硬度和化學穩定性，將陶瓷表面打磨得光滑平整。

5、金屬表面處理：對金屬材料，像不銹鋼、鋁合金等，進行鏡面拋光或者精飾拋光，提高金屬制品的外觀和耐腐蝕性。

五、氧化硅拋光液使用注意事項：

• 使用前準備?：使用前，拋光織物需用清水濕透，以避免摩擦熱影響拋光效果?。

• ?使用方法?：啟動拋光盤后，將拋光液輕搖均勻后倒出，噴撒時以拋光盤中心為圓心，沿半徑方向噴出3-5秒即可。新織物噴撒時間相應延長，以確保磨削能力?。

• ?儲存條件?：氧化硅拋光液應儲存在0~35℃的環境中，低于0℃會形成不可再分散的凝膠，高于35℃會促使微生物生長和加速凝膠化，縮短儲藏期?。

• ?結晶問題?：常規二氧化硅拋光液在使用過程中可能會結晶，建議在拋光后立即清洗拋光布，以防結晶。非結晶型二氧化硅拋光液則不用擔心結晶問題，更適合長時間拋光和振動拋光的應用?。

• ?安全事項?：使用時應保持良好的通風狀況，避免與眼睛或皮膚接觸，如接觸應用大量清水沖洗。廢棄的拋光液應符合當地環保標準處理?。