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氧化鋁研磨液

在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，超精密半導(dǎo)體研磨液作為關(guān)鍵工藝材料，直接決定了晶圓表面的平整度與器件性能的可靠性。超精密半導(dǎo)體研磨液DXN-AL-30 通過化學(xué)機械拋光（CMP）技術(shù)實現(xiàn)表面處理，其作用機制是化學(xué)腐蝕與機械研磨的協(xié)同效應(yīng)。導(dǎo)體芯片制造中，晶圓經(jīng)過刻蝕、離子注入等工藝過程，表面會變得凹凸不平，并產(chǎn)生多余的表面物等。為降低晶圓表面的粗糙度、起伏和不平度，去除晶圓表面多余物，有效實施后續(xù)工序，需要使用拋光液等拋光材料在專用設(shè)備上對晶圓進(jìn)行多次拋光處理。達(dá)西濃納米生產(chǎn)納米氧化鋁研磨液，稀土研磨液，液體分散均勻，不團聚，懸浮性好，拋光速度快，表面質(zhì)量高。

半導(dǎo)體研磨液參數(shù)如下：

粒度測試數(shù)據(jù)如下：

氧化鋁研磨液DXN-AL30特點：

1.液體顆粒均勻，流動性，穩(wěn)定性好；

2.拋光精度高，產(chǎn)品質(zhì)量高；

氧化鋁研磨液DXN-AL30應(yīng)用于：

導(dǎo)體芯片制造中，晶圓經(jīng)過刻蝕、離子注入等工藝過程，表面會變得凹凸不平，并產(chǎn)生多余的表面物等。為降低晶圓表面的粗糙度、起伏和不平度，去除晶圓表面多余物，有效實施后續(xù)工序，需要使用拋光液等拋光材料在專用設(shè)備上對晶圓進(jìn)行多次拋光處理。

氧化鋁研磨液包裝：25kg/桶