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                                                                       稀土拋光粉

一：簡介：稀土拋光粉是以氧化鈰為主體成分的混合輕稀土氧化物粉末，用于提升制品表面光潔度。原料包括氟碳鈰礦精礦（RE2O3≥70%）或可溶性稀土鹽類（如CeO2/RE2O3=45%~50%的氯化稀土或含CeO2大于80%的富鈰稀土化合物），經化學處理、灼燒、粉碎等工藝制成。

氧化鈰拋光粉是以二氧化鈰為主要成分的玻璃拋光材料，起源于20世紀30年代歐洲，我國于1968年研制成功。 該產品分為低鈰、中鈰、高鈰三類，氧化鈰含量遞增對應切削力與使用壽命提升，其中低鈰型占國內總用量85%以上。 主要原料為稀土氧化物，通過高溫煅燒、水力分級等工藝制備，具有拋光效率高、污染小的特點。

二：稀土拋光粉參數：

報告為馬爾文激光粒度報告如上

四：稀土拋光粉特點：

（1）采用稀土金屬礦物質作為原料，經煅燒制成的紅色拋光粉，可用于光學玻璃加工。

（2）平均粒度0.2-1.5um，可滿足光學元件的精度要求。

（3）拋光精度高，易清洗。

五：達西濃納米的稀土拋光粉廣泛應用于光學玻璃、顯像管玻殼、智能手機蓋板及半導體元件拋光等領域

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