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電阻蒸發鍍膜設備ZHD400
報價:面議
品牌: 北京泰科諾
產地: 北京
關注度: 1228
型號: 電阻蒸發鍍膜設備ZHD400
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產品介紹

設備型號:ZHD400

鍍膜方式:多源蒸發鍍膜

真空腔室結構:立式方形前開門結構

真空腔室尺寸:L400mm×W440mm×H450mm

加熱溫度:室溫~ 300℃

基片臺尺寸:120mm×120mm

膜厚不均勻性:≤ ±5.0%

蒸發源:2-3 組金屬源 /2-3 組有機源

控制方式:PLC + 觸摸屏控制

占地面積:主機 L1710mm×W850mm×H1850mm

總功率:≥ 8kW

適用范圍.jpg


大專院校、科研院所及企業進行薄膜新材料的科研與小批量制備


特點用途.jpg


1. 設備一體化設計,占地面積小,性價比高,性能穩定,使用維護成本低;

2. 設備配備多組蒸發源,兼容有機蒸發與無機蒸發 , 多源共蒸獲得復合膜。設計專業,功能強大,性能穩定;

3. 適用于實驗室制備金屬單質膜、半導體膜、有機膜,也可用于生產線前期工藝試驗等。



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工商信息
企業名稱

北京泰科諾科技有限公司

企業類型

信用代碼

9111011475217349XB

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