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電阻蒸發鍍膜設備ZHD400
報價:面議
| 品牌: | 北京泰科諾 |
| 產地: | 北京 |
| 關注度: | 1228 |
| 型號: | 電阻蒸發鍍膜設備ZHD400 |
產品介紹
設備型號:ZHD400
鍍膜方式:多源蒸發鍍膜
真空腔室結構:立式方形前開門結構
真空腔室尺寸:L400mm×W440mm×H450mm
加熱溫度:室溫~ 300℃
基片臺尺寸:120mm×120mm
膜厚不均勻性:≤ ±5.0%
蒸發源:2-3 組金屬源 /2-3 組有機源
控制方式:PLC + 觸摸屏控制
占地面積:主機 L1710mm×W850mm×H1850mm
總功率:≥ 8kW

大專院校、科研院所及企業進行薄膜新材料的科研與小批量制備

1. 設備一體化設計,占地面積小,性價比高,性能穩定,使用維護成本低;
2. 設備配備多組蒸發源,兼容有機蒸發與無機蒸發 , 多源共蒸獲得復合膜。設計專業,功能強大,性能穩定;
3. 適用于實驗室制備金屬單質膜、半導體膜、有機膜,也可用于生產線前期工藝試驗等。
問商家
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工商信息
企業名稱
北京泰科諾科技有限公司
企業類型
信用代碼
9111011475217349XB
法人代表
注冊地址
成立日期
注冊資本
有效期限
經營范圍







