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等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
報價：面議
| 品牌： | 安徽澤攸 |
| 產地： | 安徽 |
| 關注度： | 1636 |
| 型號： | 等離子體增強化學氣相沉積系統CVD |
產品介紹
多功能電感耦合等離子體增強化學氣相沉積系統（CVD）是用來制備高純、高性能固體薄膜的主要技術，主要借助微波或射頻的方法將目標氣體進行電離，促進化學反應在較低的溫度下進行，從而在基片上沉積出所期望的薄膜。
目前項目團隊自主研發的CVD設備可在多種襯底上（如金屬、氧化物、半導體表面）直接生長以石墨烯為代表的各類新型二維材料，用于新材料、新器件的研發。工藝簡單廉價，且具有傳統半導體生長工藝的兼容性。
應用案例
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安徽澤攸科技有限公司為您提供安徽澤攸等離子體增強化學氣相沉積系統CVD，等離子體增強化學氣相沉積系統CVD產地為安徽，屬于半導體行業專用儀器，除了等離子體增強化學氣相沉積系統CVD的參數、價格、型號、原理等信息外，還可為您提供國產臺式場發射掃描電子顯微鏡、手動臺階儀 JS10C、DMD無掩膜光刻機,澤攸科技客服電話400-810-0069轉5600，售前、售后均可聯系。
工商信息
企業名稱
安徽澤攸科技有限公司
企業類型
信用代碼
91340700MA2N3U8Q3E
法人代表
注冊地址
成立日期
注冊資本
有效期限
經營范圍
