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3 年

高級(jí)會(huì)員

已認(rèn)證

桌面型原子層沉積系統(tǒng)
報(bào)價(jià):面議
品牌: 韞茂科技
產(chǎn)地: 福建
關(guān)注度: 3718
型號(hào): MINI
核心參數(shù)

重量(kg):30Kg

規(guī)格外形(長(zhǎng)*寬*高):550*400*400mm

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產(chǎn)品介紹

桌面式平片原子層沉積系統(tǒng)


微信圖片_20220606163735.jpg


       原子層沉積(Atomic layer deposition)是通過(guò)將氣相前驅(qū)體脈沖交替地通入反應(yīng)腔體內(nèi)并在沉積基體上化學(xué)吸附并反應(yīng)而形成沉積膜的一種技術(shù),具有自限性和自飽和。原子層沉積技術(shù)主要應(yīng)用是在各種尺寸和形狀的基底上沉積高精度、無(wú)針孔、高保形的納米薄膜。 


產(chǎn)品描述


   廈門(mén)韞茂科技公司研發(fā)的超小型桌式 ALD 原子層沉積設(shè)備是先進(jìn)材料研究的有力設(shè)備之一,它可以在6寸晶元(向下兼容)和微納米粉體上實(shí)現(xiàn)均勻可控的原子層沉積,具有廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域,設(shè)各配有獨(dú)立控制的300℃完整加熱反應(yīng)腔室系統(tǒng),保證工藝溫度均勻,該系統(tǒng)具有**粉末樣品桶、晶元載盤(pán),全自動(dòng)溫控制、 ALD 前驅(qū)體源鋼瓶、自動(dòng)溫度控制閥、工業(yè)級(jí)安全控制,以及現(xiàn)場(chǎng) RGA 、 QCM 、臭氧發(fā)生器、手套箱等設(shè)計(jì)選項(xiàng),是先進(jìn)能源材料、催化劑材料、新型納米材料研究與應(yīng)用的**研發(fā)工具




主要技術(shù)參數(shù)


Mini Desktop ALD 技術(shù)參數(shù) Technical Specifications (HfO2, ZnO, Al2O3, TiO2等制備)
特色 Feature結(jié)構(gòu)緊湊,世界上極小尺寸的桌式ALD World Smallest Footprint Desktop ALD
功能 Function高端制造,功能強(qiáng)大,操作簡(jiǎn)易,維護(hù)方便
樣品**尺寸Ф100mm (其他尺寸可定制)硅片或幾克粉末
樣品反應(yīng)溫度 HeatingRT-450℃
前驅(qū)體 Max Precursor**可4組液態(tài)或固態(tài)反應(yīng)前驅(qū)體, Max 4 Liquid/Solid Precursors,可定制 Can Be Customized 
前驅(qū)體加熱**溫度 Max Precursor Heating RT-200
包覆均一性 Uniformity<1% (Al2O3)
成膜速率 Deposition Rate1A/Cycle (Al2O3)
臭氧發(fā)生器Ozone Generator可選配,生產(chǎn)效率15g/h
人機(jī)界面 HMI全自動(dòng)化人機(jī)操作界面
安全Safety工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)安全互鎖Industry Safety Interlock,報(bào)警Alarm,EMO





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廈門(mén)韞茂科技有限公司為您提供韞茂科技桌面型原子層沉積系統(tǒng),桌面型原子層沉積系統(tǒng)產(chǎn)地為福建,屬于實(shí)驗(yàn)設(shè)備,除了桌面型原子層沉積系統(tǒng)的參數(shù)、價(jià)格、型號(hào)、原理等信息外,還可為您提供公斤級(jí)粉體原子層沉積鍍膜系統(tǒng)、超高真空多腔體磁控濺射系統(tǒng)、公斤級(jí)粉末ALD,韞茂科技客服電話(huà)400-810-0069轉(zhuǎn)1395,售前、售后均可聯(lián)系。
工商信息
企業(yè)名稱(chēng)

廈門(mén)韞茂科技有限公司

企業(yè)類(lèi)型

信用代碼

91350200MA31JEYQ4Y

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