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高真空磁控濺射系統(tǒng)
報價:面議
品牌: 韞茂科技
產(chǎn)地: 福建
關(guān)注度: 3408
型號: PVD-100
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產(chǎn)品介紹

高真空磁控濺射系統(tǒng)

005.png

技術(shù)參數(shù):

1高真空腔體:2個腔體,包括負荷鎖及Sputtering,極限真空,極限壓力<5e-9 Torr

2排氣速率:從ATM到1E-7 Torr<20分鐘(負載鎖)

3樣品臺:**4寸Wafer,可加熱RT-300oC







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廈門韞茂科技有限公司為您提供韞茂科技高真空磁控濺射系統(tǒng),高真空磁控濺射系統(tǒng)產(chǎn)地為福建,屬于實驗設備,除了高真空磁控濺射系統(tǒng)的參數(shù)、價格、型號、原理等信息外,還可為您提供公斤級粉體原子層沉積鍍膜系統(tǒng)、超高真空多腔體磁控濺射系統(tǒng)、公斤級粉末ALD,韞茂科技客服電話400-810-0069轉(zhuǎn)1395,售前、售后均可聯(lián)系。
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